（来源：上观新闻）
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第五，是否💱需要警惕2028🐊🍔年产能集🔀🔓中释放导🚢致的过剩风险？🍣🥯 以下是关于🧶上述五🍐点的具体🍸分析： 存储双雄😠EUV光刻机保🔧🚅有量 日前，调研👌机构BOF🎑A公布了2♍🤲021到⭕📕202🇿🇲5年为止的▶EUV光🍄刻机数🇳🇦🕐量，如📈下所示： 如图所💋🇨🇮示，三星的EU⏫V 光刻👩💻机持有量已超🐃🎨过SK海力士的🤟👩🦰两倍，这一设备数🔁量优势💻直接映射到产🌊能层面——在🏢🇬🇼存储芯片制造🥐🐱中，光刻机部署密🦝🇻🇮度是先进🌼制程产能释放的⬛👢核心约束条件，👻🚌而多层EU👷V光刻更是🍱10nm级以下工🍎艺量产的核心前❤🎲提♣。
